靜電盤的吸附原理
靜電吸盤的吸附方式與吸附物的特性相關。以下介紹兩種靜電吸盤(Electrostatic chuck,E-CHUCK,ESC)常見的吸附原理。
庫倫力
由庫倫力支配的靜電吸盤，可以藉由高壓通電來吸附對象物。而誘電層的厚薄度會直接影響庫倫力的吸附力強度。例如：TEL DRM、TEL SCCM、TEL Vigas、AMAT Centura Ultima HDP、LAM Versys Kiyo374等等皆為庫倫力的靜電吸盤。
Johnson-Rahbek
以Johnson-Rahbek所主導的靜電吸盤，是透過調整介電層的絕緣性，以少量通過的電流來吸附對象物。將內部電極加壓電壓後，電荷慢慢地往表面移動，產生虛擬電極。產生的虛擬電極與欲吸附的對象物靠近，因此在低電壓下能有高的吸附力。例如：AMAT Centura DT-HART、AMAT Producer、LAM Exelan385、Novellus、Hitachi(U)等等皆為Johnson-Rahbek(JR type)的靜電吸盤。